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聯(lián)系我們X熒光鍍層測厚儀物理意義及應用
點擊次數(shù)：1122 更新時間：2016-05-25
X熒光鍍層測厚儀測量模式用于：
單、雙及三層鍍層系統(tǒng)；
雙元及三元合金鍍層的分析和厚度測量；
雙層鍍層，其中合金鍍層在外層或在中間層的厚度測量和分析（兩層的厚度和合金成分都能被測量）；
能分析多達四種金屬成分的合金；電鍍液中金屬離子含量；
可編程的應用項圖標，用于快速應用項選擇；
完整的統(tǒng)計功能，SPC圖，標準的概率圖和矩形圖評估；
報告生成，數(shù)據(jù)輸出；
語言可選擇：英語，德語，法語，意大利語，西班牙語，及中文；
菜單中的某些選擇項可授權使用；
注：基礎WinFTM軟件版本不允許創(chuàng)建新的應用，所要求的應用不得不在定貨時明確。當校準標準塊與儀器一起定購時，可在交貨前預先創(chuàng)建應用。若沒有定購校準標準塊，則只可使用已預裝的*無需標準塊的測量應用。
可選擇的Super WinFTM軟件（訂貨號602-950）提供了以下的附加功能：
可隨意創(chuàng)建測量應用；
可把每種測量模式的測量范圍設定為想要的理論上的測量精度；
快速的頻譜分析以決定合金成分；
X熒光鍍層測厚儀物理意義：
X射線是電磁波譜中的某特定波長范圍內(nèi)的電磁波，其特性通常用能量（單位：千電子伏特，keV）和波長（單位：鈉米，nm）描述。X射線熒光是原子內(nèi)產(chǎn)生變化所致的現(xiàn)象。一個穩(wěn)定的原子結構由原子核及核外電子組成。這些核外電子圍繞著原子核按不同軌道運轉(zhuǎn)，它們按不同的能量分布在不同的電子殼層：分布在同一殼層的電子具有相同的能量。
當具有高能量的入射（一次）X射線與原子發(fā)生碰撞時，會打破原子結構的穩(wěn)定性。處于低能量電子殼層（如：K層）的電子更容易被激發(fā)而從原子中逐放出來，電子的逐放會導致該電子殼層出現(xiàn)相應的電子空位。這時處于高能量電子殼層的電子（如：L層）會躍遷到該低能量電子殼層來補充相應的電子空位。由于不同電子殼層之間存在著能量差距，這些能量上的差以二次X射線的形式釋放出來，不同的元素所釋放出來的二次X射線具有特定的能量特性。儀器通過探測不同的元素所釋放出來的二次X射線具有特定的能量特性，進行分析計算得到各鍍層厚度，這一個過程就是我們所說的X射線熒光測厚。
應用
X熒光鍍層測厚儀有著快速，準確，非破壞，非接觸，多層合金測量，高生產(chǎn)力，高再現(xiàn)性等優(yōu)點的情況下進行表面鍍層厚度的測量，從質(zhì)量管理到成本節(jié)約有著廣泛的應用
